产品目录Products

美国 Swagelok 原子层沉积 (ALD) 阀赫尔纳供应

美国 Swagelok 原子层沉积 (ALD) 阀赫尔纳供应，由赫尔纳德国总部直接采购，近30年进口工业品经验，原装产品，支持选型，为您提供一对一好的解决方案：货期稳定，快速报价，价格优，设有8大办事处提供相关售后服务。

公司简介：

世伟洛克是工业流体系统制造和支持领域的全球领者。自 1947 年推出革命性的无泄漏式 世伟洛克®卡套管接头以来，我们始终秉承制造高品质产品的激情和满足客户 需求的坚定信念，帮助各行各业在苛刻的应用条件下安全、高效、可靠地输送液体和气体。。

主要产品：

管接头、阀门、软管和软性卡套管、调压阀、快速接头、定制化方案等。

产品型号：

ALD3、ALD6、ALD7、ALD20

美国Swagelok 原子层沉积 (ALD) 阀产品介绍：

世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有实现半导体制造应用中进样所需的超高循环寿命、快速动作、流量、热浸没和高洁净度。我们的高性能 ALD 阀是世伟洛克长期以来在半导体制造业中显示出迅速响应的技术领导力的一个重要例子。ALD 阀技术问世以来，世伟洛克与半导体行业的客户密切合作，了解他们的需求，然后打造出 ALD 阀，提供必要的、高水平的精度、一致性、清洁度和高循环寿命，以跟上市场的快速创新步伐。

美国Swagelok 原子层沉积 (ALD) 阀主要特点：

ALD3 和 ALD6 隔膜阀在原子层沉积应用中具备强大的性能，可实现高速执行下的超高循环寿命。

ALD7 超高纯隔膜阀提供了在半导体制造应用中尽可能地提高芯片成品率所需的精度和一致性。

使用 ALD20 超高纯阀门推进原子层沉积技术，其流速是其他 ALD 阀门的 2-3 倍。

美国Swagelok 原子层沉积 (ALD) 阀产品优势：

Ø 快速动作下的超高循环寿命

Ø Cv 范围从 0.27 至 1.7

Ø 耐热能力高达 392°F (200°C)

Ø 电子或光学执行机构位置传感选购件

Ø 凭借 316L VIM-VAR 不锈钢阀体而适合超高纯应用场合

Ø 模块化表面安装、卡套管对焊和 VCR® 端接

美国Swagelok 原子层沉积 (ALD) 阀主要应用：

半导体行业、光纤设备制造、流体系统等。